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光刻机asml cymer光电模块组件维修114122

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产品信息
公司名称

cymer光电模块维修

维修设备类型

cymer光电模块组件维修

服务内容

光刻机光电模块维修

工作时间

全天

可否定做

可以

新旧程度

二手

pa凯发娱乐的售后服务

店面三包

适用星级

所有星级

品牌

cymer电源维修

  1:436nm g-line

  可以满足0.8-0.35 微米制程芯片的生产,对应设备有接触式和接近式光刻机。

  2:365nm i-line

  同样可以满足0.8~0.35微米制程芯片的生产。设备于上相同。

  早期的光刻机采用接触式光刻,即掩模贴在硅片上进行光刻,容易产生污染,且掩模寿命较短。此后的接近式光刻机对接触式光刻机进行了改良, 通过气垫在掩模和硅片间产生细小空隙,掩模与硅片不再直接接触,但受气垫影响,成像的精度不高。

  3:248nm krf

  工艺节点提升至350~180nm水平,在光刻工艺上也采用了扫描投影式光刻,即现在光刻机通用的,光源通过掩模, 经光学镜头调整和补偿后, 以扫描的方式在硅片上实现曝光。

  4:193nm arf

  制程提升至65nm的水平。四代光刻机是目前使用广的光刻机,也是具有代表性的一代光刻机。

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